型　  号：Hex - 01

功　　　  能：

• 半导体、光学和生物领域微纳结构的制备
  Fabrication of micro- and nano- structures in semiconducting, optical and biological areas

主要指标：

• 基片(Wafers)：小于150 mm的各种基片 (up to 150 mm wafers)
• 热压真空度(Vacuum)： ≦ 1 mbar
• 加热温度(Temperature available)：up to 320 ℃
• 最大压力(Force available)：up to 20 kN
• UV波长(Wavelength)：365 nm
• UV最大功率(Power available)：1.5 mW / cm2

技术特点：

• 微纳结构的快速、廉价制备
  Rapid fabrication of micro- and nano- structures with low cost 

• 具有热压印和紫外压印功能
  Both hot embossing and UV imprinting capability