型　  号：CEE-200X-F

  功　  能：

• 各种光刻胶的均匀旋涂
  Uniform spin coating for various photoresist
• 适用于6吋基片及各种碎片
  From pieces up to 6-inch wafers

  主要指标：

• 转速范围(Spin speed)：0 ~ 12,000 rpm
• 转速精度(Speed accuracy)：0 rpm
• 转速重复率(Speed repeatability)：0 rpm
• 旋转加速度(Spin acceleration)：0 ~ 30,000 rpm/s (unloaded)
• 旋转时间范围(Spin duration)：0.1 ~ 9999.9 s
• 最大基片尺寸(Wafer size)：Up to 6-inch
• 4吋片匀胶不均匀度(Thickness uniformity for 4-inch wafer):＜±3%

  技术特点：

• 转速高，精度高
  High spin speed with high precision
• 可靠性好，稳定性好，重复性好
  High performance with good stability and repeatability